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电镀铬-金刚石复合过渡层提高金刚石膜/基结合力

邱万奇 , 潘建伟 , 刘仲武 , 余红雅 , 钟喜春 , 曾德长

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00205

在铜基体上沉积铬-金刚石复合过渡层, 用热丝CVD系统在复合过渡层上沉积连续的金刚石涂层. 用扫描电镜(SEM)、X射线(XRD)、拉曼光谱及压痕试验对所沉积的镶嵌结构界面金刚石膜的相结构及膜/基结合性能进行了研究. 结果表明, 非晶态的电镀Cr在CVD过程中转变成Cr3C2, 由于金刚石颗粒与Cr3C2的相互咬合作用, 金刚石膜/基结合力高; 在294 N载荷压痕试验时, 压痕外围不产生大块涂层崩落和径向裂纹, 只形成环状裂纹.

关键词: 金刚石膜 , inlay structure , composite plating , indentation , adhesive strength

镶嵌结构界面金刚石成膜机制的研究

陈星婷 , 邱万奇 , 刘仲武 , 匡同春 , 曾德长 , 周克崧

稀有金属材料与工程

在铜基体复合电沉积金刚石-铜过渡层,用热丝CVD法对铜基镶嵌结构界面金刚石膜的初期生长过程进行了研究.结果表明:不规则的露头金刚石在CVD生长初期逐渐转化为规则的刻面金刚石,长大速率呈现先增加后降低的趋势,伴随着刻面的形成,在露头金刚石与电镀铜二面角处开始二次形核,二次晶粒与电镀铜形成新的二面角并促进二次形核,如此繁衍长大的结果是二次晶粒填充在露头金刚石颗粒沟槽之间,形成连续的金刚石膜.

关键词: 金刚石膜 , 镶嵌 , 成膜机制 , 二次形核

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