李东辉
,
刘志凌
,
叶甜春
,
陈大鹏
,
吕反修
无机材料学报
介绍了金刚石膜在下一代X射线光刻掩模中应用的必要性;通过调节衬底温度,改变生长时间、控制甲烷浓度等工艺措施,实验研究了不同参数对成核密度及成核质量的影响,获得了高密度形核的样品;对形核后的预生长期进行了工艺优化,有效地控制了核岛的优势生长,总结出了一套优化的形核方案,即甲烷浓度4％,衬底温度700℃...
关键词:
成核
,
diamond film
,
MPCVD
,
X-ray lithography .mask
张玮
,
满卫东
,
林晓棋
,
吕继磊
,
阳硕
,
赵彦君
人工晶体学报
利用直流辉光等离子体化学气相沉积(DC-GD CVD)设备在碳化硅(SiC)密封材料上沉积复合金刚石薄膜(ICD).实验通过两步工艺,先在SiC上沉积一层微米金刚石薄膜(MCD),然后再沉积一层纳米金刚石薄膜(NCD)形成复合金刚石薄膜(ICD).通过场发射扫面电镜和拉曼测试,研究了MCD、NCD和...
关键词:
碳化硅
,
金刚石薄膜
,
等离子体化学气相沉积
,
摩擦系数
