材料期刊网

1. 首页
2. 检索结果页

原词结果 | 译词结果

含ZrF₄氟铝酸盐玻璃研究

曹国喜 , 范有余 , 胡和方 , 干福熹

无机材料学报

以10MgF₂-20CaF₂-10SrF₂-10BaF₂-15YF₃-35AlF₃(摩尔百分数)氟铝酸盐玻璃为基本组成,在玻璃中引入不同含量的ZrF_4,同时对其它组成进行适当调整,制得了厚度8mm无可见析晶的氟化物玻璃。利用差热分析(DTA)技术研究了ZrF₄对玻璃形成能力和玻璃析晶动力学的影响,结果表明,少量的ZrF₄可以提高玻璃的抗失透能力,过量的ZrF₄会降低玻璃形成能力;ZrF₄的最佳含量范围为7.3～11.4mol％。根据测得的玻璃的红外透过光谱显示,该玻璃具有良好的透红外光性能。

关键词: 氟化物玻璃 , differential thermal analysis , glass formation , crystallization kinetics

新型AgInSbTe相变薄膜的结晶活化能研究

张广军 , 顾冬红 , 李青会 , 干福熹 , 刘音诗

无机材料学报

利用磁控溅射法制备了新型AgInSbTe相变薄膜, 热处理前后的X射线衍射(XRD)表明了薄膜在热作用下从非晶态转变到晶态. 通过非晶态薄膜粉末的示差扫描量热(DSC)实验测定了不同升
温速率条件下的结晶峰温度, 计算了粉末的摩尔结晶活化能、原子激活能和频率因子. 从结晶活化能E可以判断出新型AgInSbTe相变薄膜具有较高的结晶速度, 可以用于高速可擦重
写相变光盘.

关键词: 新型AgInSbTe相变薄膜 , crystallization kinetics , XRD , DSC

快淬Nd--Fe--B非晶厚带的晶化过程和非等温晶化动力学

王大鹏包小倩张茂才朱洁

金属学报

利用熔体快淬法在12 m/s的辊速下制备了Nd₆Fe₇₂B₂₂和Nd₆Fe₆₈Ti₄B₁₇C₅非晶厚带. 通过DSC和XRD, 并借助Kempen模型和 Kissinger方程, 研究了合金的非晶晶化过程及非等温晶化动力学. 结果表明, 两种合金厚带具有不同的晶化过程以及晶化动力学机制. Nd₆Fe₇₂B₂₂合金的晶化过程分为三步完成: 非晶
相 (AP)→ Nd₂Fe₂₃B₃→Nd₂Fe₁₄B+ α--Fe +Fe₃B→Nd₂Fe₁₄B+α--Fe+Fe₃B+NdFe₄B₄, 而Nd₆Fe₆₈Ti₄B₁₇C₅ 合金一步完成晶化: AP→Nd₂(Fe, Ti)₁₄(B, C)+α--Fe + Fe₃B. 与Nd₆Fe₇₂B₂₂合金由界面控制的多晶型晶化不同, Nd₆Fe₆₈Ti₄B₁₇C₅合金以扩散控制的共晶型晶化为主.

关键词: Nd--Fe--B , amorphous alloy , crystallization kinetics , crystallization activationt energy

Ge-Sb-Te-O相变薄膜的结晶动力学研究

顾四朋 , 侯立松

无机材料学报

用磁控溅射法制备了Ge-Sb-Te和Ge-Sb-Te-O相变材料薄膜,由热处理前后薄膜的X射线衍射(XRD)发现,热处理使薄膜发生了从非晶态到晶态的相变.通过非晶态薄膜粉末的示差扫描量热(DSC)实验测出不同加热速率条件下的结晶峰温度,并计算了材料的摩尔结晶活化能、原子激活能和频率因子.根据结晶动力学结晶活化能E判据得出结论为:与Ge-Sb-Te相比,掺杂氧后的Ge-Sb-Te更容易析晶,具有更快的结晶速率.

关键词: Ge-Sb-Te相变薄膜 , oxygen-doping , XRD , DSC , crystallization kinetics

一种新的Cu基大块非晶合金非等温晶化动力学研究

张香云 , 袁子洲 , 冯雪磊 , 崔立志

稀有金属材料与工程

采用铜模吸铸法制备了Cu56.4Zr31.02Ti6.58Al6大块非晶合金(BMGs),并利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和同步示差扫描量热仪(DSC)等手段对其晶体结构、晶化激活能和晶化机制进行了研究.利用y(a)和z(a)判据检测了不同晶化模型对于该BMGs初始晶化相晶化过程的适用性.结果显示:该BMGs初晶晶化产物为Cu10Zr7相,Starink-Zahra模型可以很好地描述其晶化机制.拟合参数λ1不为零,故晶化过程中软碰撞作用不可忽视;Avrami指数n由2.5减小为2.3,其晶化过程为连续形核过程中伴随着晶核受扩散控制的三维方式长大,且形核速率不断减小.

关键词: 晶化机制 , 晶化激活能 , 大块金属玻璃 , 晶化动力学

THE CRYSTALLIZATION KINETICS OF AN AMORPHOUS Ti-RICH NiTi FILM

X. Y. Jiang , H.B. Xu and S.K. Gong (Department of Materials Science and Engineering , Beijing University of Aeronautics and Astronautics , Beijing 100083 , China)

金属学报(英文版)

The crystallization kinetics of an amorphous Ti-rich NiTi film (Ni 46.34at.%, Ti 53.66at.%)prepared by DC magnetron sputtering was determined by non-isothermal techniques. The activation energy of crystallization and the mean value of the Avrami parameter are 382kJ/mol and 0.85, respectively. The calculated isothermal kinetic curse of amorphous film at 773K coincides with the result of X-ray diffraction.The formation of a Ti2Ni phase is accompanied with the crystallization of Ti-rich NiTi film.

关键词: amorphous NiTi film , null , null

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词