周艺
,
黄可龙1
,
朱志平
,
杨波
,
夏畅斌
,
肖汉宁
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.01085
采用酸催化溶胶-凝胶法制备了Gd3+、Eu2+两种稀土金属离子混合掺杂的复合TiO2光催化剂, 通过TEM、XRD、UV-Vis等分析手段对产物进
行了表征, 结果表明: 样品均呈锐钛矿型结构, 颗粒尺寸的变化只与掺杂离子总量有关, 掺杂量为1.0%时达最小值; 一定比例Eu2+、Gd3+的混合掺杂, 能增强可见光范围内光响应. 以甲基橙为目标降解物研究了不同比例Eu2+、Gd3+混合掺杂对纳米二氧化钛光催化活性的影响, Gd3+、Eu2+适合掺杂量范围分别为0.1%~1.0%和0.5%~1.5%. Eu2+、Gd3+混和掺入TiO2光催化剂中产生协同效应, 探讨了Eu2+和Gd3+与TiO2之间的相互作用, 讨论了光催化活性与催化剂性质的关系.
关键词:
稀土
,
codoping
,
synergetic effect
,
photocatalysis
卢洋藩
,
叶志镇
,
曾昱嘉
,
陈兰兰
,
朱丽萍
,
赵炳辉
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2006.01511
采用Li-N-H共掺技术在玻璃衬底上生长p型ZnO薄膜. XRD结果表明共掺ZnO薄膜具有高度cll轴取向, Hall测试表明薄膜的电阻率为25.2Ω·cm, Hall迁移率为0.5cm2/(V·s), 空穴浓度为4.92×1017/cm3. 此外, p-ZnO薄膜在可见光区域具有90%的高透射率.
关键词:
p-ZnO
,
magnetron sputtering
,
codoping
曾昱嘉
,
叶志镇
,
吕建国
,
李丹颖
,
朱丽萍
,
赵炳辉
无机材料学报
目前,制备性能优异的p-ZnO薄膜的可重复性问题已成为制约ZnO基光电器件发展的一个主要因素.本文利用直流反应磁控溅射技术,以X射线衍射,霍尔效应测试,X射线光电子能谱及透射光谱为表征手段,研究了不同衬底温度对Al+N共掺p-ZnO薄膜电学、光学、结晶性能的影响,并从N2O的分解反应及衬底表面各种原子的迁移过程提出导致薄膜性能差异的原因.在最佳衬底温度(500℃)时,p-ZnO薄膜空穴浓度达2.52×1017cm-3,电阻率为28.3Ω·cm.
关键词:
P-ZnO
,
magnetron sputtering
,
codoping