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混杂聚硼硅氮烷的陶瓷化过程研究

李斌 , 张长瑞 , 曹峰 , 王思青 , 姜勇刚

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00229

合成了新型的陶瓷先驱 体混杂聚硼硅氮烷(H-PBSZ), 分析了其结构, 并采用TG-DTA、FT-IR、XRD以及SEM等分析手段对其裂解过程进行了研究. 结果表明, H-PBSZ结构中含有B-N、Si-N、B-H、N-H、Si-H等化学键, 随着裂解温度的升高, 含氢键逐渐减少直至消失, 最终得到BN和Si3N4的混合物. 在裂解过程中, 失重主要发生在100~400℃之间, 陶瓷产率约为83wt%. 裂解产物的结晶程度随着温度的升高逐渐增强, 800℃的产物基本上为无定形态, 微观形貌主要以球形颗粒为主; 1600℃的产物则已经晶化, 可以观察到层片状结构的h-BN及少量的α-Si3N4晶粒.

关键词: 聚硼硅氮烷 , pyrolysis , ceramization , boron nitride

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