郑静地
,
邹友生
,
宋贵宏
,
宫骏
,
刘越
,
孙超
,
闻立时
金属学报
利用电弧离子镀技术在SiCp/2024Al基体上制备(Ti,Al)N涂层. 研究了偏压对涂层的相组成、晶格常数和成分的影响及不同过渡层对涂层与基体结合性
能的影响. 结果表明, 在较小偏压下, (Ti,Al)N涂层呈(111)择优取向; 偏压在--150 V时, 涂层无择优取向; 但随偏压继续升高, 出现(200)和 (220) 择优取向. 在添加Ti过渡层时, 涂层与基体形成致密均匀的良好结合. 同时通过设计梯度涂层, 获得了厚度达105 um的无裂纹(Ti,Al)N涂层.
关键词:
(Ti
,
Al)N coating
,
SiCp/Al composite
,
arc ion plating
李红凯
,
林国强
,
董闯
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00517
用脉冲偏压电弧离子镀方法在保持石墨靶弧流恒定的条件下, 通过同步改变锆靶弧流与氮流量,在硬质合金基体上制备了一系列不同成分的C1-x-yNxZry复合薄膜. 随着锆靶弧流与N流量增加, 薄膜中Zr与N含量都呈线性增加, 同时C含量快速减少. Raman光谱显示所制备的薄膜具有DLC特征, 而XRD结果显示薄膜中还存在有明显的ZrN晶体相, 说明本实验所制备的薄膜属于在DLC非晶基体上匹配有ZrN晶体相的碳基复合薄膜. 随Zr与N含量增加，薄膜硬度先增大后降低, 当x=0.19, y=0.28时薄膜具有最高硬度值, 为43.6GPa, 达到了超硬薄膜的硬度值.
关键词:
类金刚石薄膜
,
superhard composite film
,
pulsed bias
,
arc ion plating
徐一
,
缪强
,
梁文萍
,
王玲
,
于修水
,
任蓓蕾
,
姚正军
稀有金属材料与工程
利用XRD、EDS和SEM分析研究了磁控溅射和电弧离子镀2种工艺制备的Al涂层的微观结构、形貌和抗氧化性能.磁控溅射技术制备的均匀、致密的Al层拥有更为细小的晶粒组织.在氧化实验后,磁控溅射制备的Al涂层形成了一个由表层氧化层、次表层富Al层和互扩散层的保护性结构.相比之下,电弧离子镀制备的Al涂层表现出了更差的抗氧化性.这是由于在离子镀制备的Al涂层中发现的针孔可以为氧气的侵入提供通道,从而引起涂层的内氧化并最终导致涂层的剥离.结果表明,磁控溅射制备Al涂层具备更好的抗高温氧化性能.
关键词:
磁控溅射
,
电弧离子镀
,
Al涂层
,
抗氧化性能
