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MTS/H₂体系CVD SiC的气相分析

卢翠英 , 成来飞 , 赵春年 , 张立同

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00845

采用CG/MS定性定量分析了MTS/H₂体系CVD SiC的气相组成, 考察了沉积温度、总压和流量对气相组成的影响, 从反应速率和分子浓度大小的角度出发, 分析了MTS在H2中的分解步骤. 主要结论如下: (1) 检测到CH₄、C₂H₆、C₂H₄、C₃H₆、C₂H₂、MTS、SiCl₄和CH₃SiHCl₂物质, 其中CH₄和SiCl₄的含量较高. (2) 体系温度、总压和总流量对气相组成有显著影响, 其影响规律与热力分析结果一致. (3) MTS主要以Si-C键断裂引发分解反应, 经历与原反应气反应、中间物质和副产物生成等主要阶段, CH₃®C₂H₆®C₂H₄®C₂H₂是生成烷烃化合物的主要路径.

关键词: GC/MS , analysis of gaseous species , CVD SiC , MTS/H₂