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采用EB-PVD技术在TiAl基体上沉积NiAlHf涂层的研究

张东博 , 宋冠禹 , 薛志勇 , 贾龙 , 徐钢

稀有金属材料与工程

采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术在TiAl基体上制备NiAlHf涂层,结合氧化增重曲线的测试结果,研究了NiAlHf涂层对基体在900,950和1000℃空气中氧化行为的影响.采用X-射线衍射(XRD)研究表面的物相结构,XRD结果表明,沉积后表面形成β-NiAl相,说明Hf固溶于其中.结果表明,在950 ℃氧化后涂层表面形成致密的氧化铝保护膜.扫描电子显微镜(SEM)和能谱(EDS)被用来测试其表面的形貌和元素分布.结果表明,在氧化过程中,基体和涂层之间的元素发生互扩散.随着氧化时间的增加,涂层厚度减小,扩散区发生显著变化.采用显微硬度表征涂层的韧性,涂层的显微硬度(HV)为7050MPa左右.NiAlHf涂层能提高基体高温抗氧化性能.

关键词: 电子束物理气相沉积 , TiAl基体 , NiAlHf涂层 , 氧化

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