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Ba_xSr_1-xTiO₃前驱多层膜制备及后热处理条件的优化

郭杏元 , 刘庆峰 , 刘茜 , 吴庆生

无机材料学报

用Ar^~+离子束多靶溅射沉积技术在单晶硅Si(100)上顺序沉积了TiO₂、BaCO₃、SrCO₃叠层,并经后期低温扩散和高温晶化两步热处理过程制备了Ba_xSr_1-xTiO₃薄膜。用俄歇扫描电子能谱(AES)对其低温扩散效应(温度、时效、沉积顺序)进行了研究。实验结果表明:在低温段长时间保温或在中温段短时间保温都有利于各沉积组元充分扩散,扩散均匀的混合膜层经高温晶化(900℃)能形成多晶Ba_xSr_1-xTiO₃薄膜。

关键词: Ba_xSr_1-xTiO₃ , ion beam sputtering , sequential deposition , Auger Electronic Spectrum , diffusion