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肖兴成 , 江伟辉 , 宋力昕 , 田静芬 , 胡行方
无机材料学报
研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳（ａ－ＣＮx）薄膜沉积的影响．实验结果表明：Ｎ２流量的增加提高了膜的沉积速率，同时提高了膜中氮含量．溅射功率的提高增加了沉积速率．偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数，它不仅使薄膜致密、表面光滑，而且还可以提高膜中的Ｎ含量．
关键词: a－CNx膜 , processing parameters , deposition
