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PECVD法淀积氟碳掺杂的氧化硅薄膜表征

丁士进 , 张庆全 , 张卫 , 王季陶

无机材料学报

以正硅酸乙酯（ＴＥＯＳ）和八氟环丁烷（Ｃ４Ｆ８）为原料，采用等离子体增强化学气相淀积（ＰＥＣＶＤ）方法制备了氟碳掺杂的氧化硅薄膜（ＳｉＣＯＦ）．样品的Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）和傅立叶变换红外光谱（ＦＴＩＲ）分析表明薄膜中含有Ｓｉ－Ｆ、Ｓｉ－Ｏ、Ｃ－Ｆ、Ｃ－ＣＦ_ｘ、ＣＦ₂等构型．刚淀积的薄膜的折射率约为１．４０．对暴露在空气中以及在不同温度下退火后薄膜的折射率做了测量，并对其变化机理进行了讨论，同时表明了理想的淀积温度应是３００℃．

关键词: 等离子体增强化学气相淀积 , SiCOF film , XPS , FTIR , refractive index

Pb_1-xSr_xSe薄膜材料的微结构和光学特性

王擎雷 , 吴惠桢 , 斯剑霄 , 徐天宁 , 夏明龙 , 谢正生 , 劳燕锋

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2007.01108

采用分子束外延的方法在BaF₂衬底(111)上制备出了高质量的Pb_1-xSr_xSe (0≤ x≤0.050)薄膜. X射线衍射结果表明, Pb_1-xSr_xSe 薄膜为立方相NaCl型晶体结构, 没有观察到SrSe相分离现象, 薄膜的取向为平行于衬底(111)晶面. 薄膜晶格常数随Sr含量的增加逐渐增大, Sr含量由Vegard公式得到. 再用理论模拟Pb_1-xSr_xSe 薄膜透射光谱的方法得到了相应的带隙. 最后通过介电函数模型拟合得到了PbSe和Pb_1-xSr_xSe 薄膜在光子能量位于基本带隙附近的折射率n和吸收系数α.

关键词: Pb_1-xSr_xSe 外延薄膜 , transmission spectrum , refractive index , absorption coefficient

等离子体源增强磁控溅射沉积Al₂O₃薄膜研究

雷明凯 , 袁力江 , 张仲麟

无机材料学报

采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si（100）基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al₂O₃薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al₂O₃体材料相当.

关键词: 氧化铝薄膜 , plasma source , magnetron sputtering , refractive index

GeS₂-Ga₂S₃-AgCl玻璃的光学特性研究

范鑫烨 , 徐铁峰 , 沈祥 , 戴世勋 , 聂秋华 , 王训四 , 陈飞飞

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00191

采用熔融淬冷法制备了摩尔组成为（100-x）(0.85GeS₂-0.15Ga₂S₃)-xAgCl（x=0,5,10,15,20）硫卤玻璃, 测试了样品的密度、转变温度、析晶温度、可见到中远红外透过光谱、吸收光谱以及折射率参数, 根据Z扫描测试原理用钛宝石飞秒激光器测试了样品的三阶非线性特性. 利用经典的Tauc方程计算了样品光学带隙允许的直接跃迁、允许的间接跃迁及Urbach能量.讨论了玻璃的摩尔折射度、金属标准值、光学带隙、Urbach能量对玻璃样品折射率的影响.结果表明：该系统玻璃具有较宽光谱, 从可见到中远红外透过区域（0.46~11.50)μm,可作为潜在的多光谱成像材料.随AgCl含量的增加, 玻璃的折射率随着摩尔折射度增大而增大, 金属标准值、光学带隙与Urbach能量有减小的趋势, 而玻璃的三阶非线性性能得到明显提高.

关键词: 硫卤玻璃 , optical band gap , refractive index , Urbach energy , thirdorder nonlinearity

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