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激光化学气相沉积快速生长高取向TiNx薄膜的研究

公衍生 , 涂溶 , 後藤孝

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00391

采用激光化学气相沉积(LCVD)技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率(PL)、衬底预热温度(Tpre)和沉积总压力(Ptot)对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射(XRD)、俄歇能谱(AES)和场发射扫描电镜(FESEM)对薄膜组成和结构进行了表征.结果表明:所得到的TiNx薄膜成分均匀,其取向与衬底预热温度有关,随着预热温度的升高,TiNx薄膜的取向由(111)变为(200),薄膜的取向与其微观结构一致.TiNx薄膜的沉积速率随着激光功率升高而增大,在PL=100W时,达到最大值90μm/h(沉积面积为300mm2),显著高于采用其它方法制备的TiNx薄膜.

关键词: TiNx薄膜 , highspeed deposition , orientation , laser chemical vapor deposition (LCVD)

KDP晶体生长习性与快速生长研究

傅有君 , 高樟寿 , 王圣来 , 李毅平 , 曾红 , 罗建平 , 段爱东

无机材料学报

发现由五氧化二磷合成的KDP晶体生长原料中含有大量还原性亚磷酸盐杂质.实验表明,亚磷酸盐对晶体锥面生长有显著的抑制作用.低浓度时造成柱面扩展,在高浓度时则使整个晶体的生长速度变慢.这种原料以适当方法提纯后,用“点籽晶”技术进行快速生长实验,平均生长速度达到13.7mm/天.

关键词: 晶体生长 , rapid growth , crystal habit , potassium dihydrogen phosphate , null

Ca2+离子对 KDP晶体生长习性及性能的影响

牟晓明 , 王圣来 , 房昌水 , 孙洵 , 顾庆天 , 李毅平

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2007.01103

Ca2+是KDP原料中一种常见的杂质离子, 通过传统降温法和“点籽晶”快速生长法研究了Ca2+离子对KDP晶体生长习性及性能的影响. 实验表明, Ca2+低浓度掺杂时对溶液的稳定性及生长过程没有明显的影响; 高浓度时溶液稳定性有所降低, 经常出现杂晶; 快速生长时, 晶体柱面易出现包藏, 晶体的紫外透过呈下降趋势, 晶体中散射颗粒密度随掺杂浓度的增加而增大.

关键词: Ca2+ , KDP crystal , crystal growth , rapid growth

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