熊国刚
,
肖李鹏
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2002.10.016
利用Arrhenius公式对化学气相沉积的反应进行研究,设计了一种低压热化学气相沉积(LPCVD)高效沉积反应室.在料管的下方与衬底的上方间安放漏斗型筛板,在工艺中有效地提高了氢气的分压,并有利于衬底温度的提高,加快了沉积速率.通过对设计前后钨薄膜的金相组织对比分析后发现,较高的沉积速率可以使沉积薄膜晶粒细小,结构致密,但薄膜与衬底附着力较差,提高衬底温度可有效地提高薄膜与衬底附着力,以弥补因较高的沉积速率带来的薄膜与衬底附着力较差的问题,提高薄膜质量.
关键词:
低压热化学气相沉积
,
高效沉积
,
反应室
,
设计
