王忠柯
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黄新堂
,
王又清
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王秋良
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陈清明
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2000.05.009
应用氧离子束辅助准分子脉冲激光沉积薄膜技术,先在NiCr合金(Hastelloy c-275)基底上在室温下淀积具有平面织构的钇稳锆(YSZ)缓冲层薄膜,再在YSZ/NiCr基底上在750℃下制备具有平面织构和高临界电流密度的YBa2Cu3O7-x(YBCO)薄膜.YSZ和YBCO薄膜都为c-轴取向和平面织构的,YSZ(202)和YBCO(103)的X射线扫描衍射峰的全宽半峰值分别为18°和11°.YBCO薄膜的临界温度和临界电流密度分别为90K(R=0)和7.9×105A/cm2(77K,零磁场).
关键词:
准分子脉冲激光
,
YBCO薄膜
,
高临界电流密度
,
NiCr合金基底
,
织构
