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磁导体电子学信息功能材料

赖武彦

材料导报

纳米尺度超薄膜的制备和结构表征,催生了一门新学科--磁导体电子学.制备方法的改进促进了磁导体电子学器件的产业化.它在计算机信息功能上有重要应用.计算机信息量的运算和存取是信息功能的两个侧面,必须平衡发展.巨磁电阻(GMR)硬盘的存储密度已达11Gbits/in2,这个突破性进展缓解了失衡.非易失性磁随机存储器(MRAM)是磁导体电子学器件又一新成果.利用现有微电子技术,可以尽快实现其产业化.

关键词: 磁导体电子学 , 纳米薄膜 , 巨磁电阻 , 隧道磁电阻 , 磁随机存储器

Fe2O3对锌铁氧体隧道结构和磁性能的影响

张栋杰 , 都有为

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2004.01.006

利用X射线衍射和高分辨透射电镜(HRTEM)分析和观测了ZnFe2O4/Fe2O3纳米复相铁氧体的结构,研究了Fe2O3对ZnFe2O4/Fe2O3纳米复相铁氧体的结构和磁性能的影响.结果表明:过最的Fe2O3是在复相锌铁氧体内形成隧道结构和隧道磁电阻(TMR)的必要条件;在复相锌铁氧体中α-Fe2O3位于晶界处,形成隧道结构的绝缘层;复相锌铁氧体具有非线性的伏安曲线和TMR效应;单相锌铁氧体具有线性伏安曲线和一般铁氧体磁电阻效应;复相锌铁氧体的相变动力学表明α-Fe2O3是由晶界或表面控制的析晶.

关键词: 无机非金属材料 , 隧道结构 , 隧道磁电阻 , 铁氧体 , ZnFe2O4

RF反应溅射法制备NiFe/Al2O3/Co磁性隧道结研究

张万里 , 彭斌 , 唐晓莉 , 蒋洪川 , 张怀武

功能材料

采用RF反应溅射法制备了室温下TMR值达6.5%的NiFe/Al2O3/Co磁性隧道结.样品制备采用一系列的掩模,Al2O3层的制备采用RF反应溅射并原位热氧化方法,隧道结的面积为0.2mm×0.2mm.样品的Ⅰ-Ⅴ特性曲线说明了样品中隧道效应的存在,利用XPS分析了样品界面特性及样品成分随膜厚的变化.

关键词: 磁性隧道结 , RF反应溅射 , 隧道磁电阻

Fe2O3对锌铁氧体隧道结构和磁性能的影响

张栋杰 , 都有为

材料研究学报

利用X射线衍射和高分辨透射电镜(HRTEM) 分析和观测了ZnFe2O4/Fe2O3纳米复相铁氧体的结构,研究了Fe2O对ZnFe2O4/Fe2O3纳米复相铁氧体的结构和磁性能的影响。结果表明: 过量的Fe2O3是在复相锌铁氧体内形成隧道结构和隧道磁电阻(TMR)的必要条件;在复相锌铁氧体中?-Fe2O3位于晶界处,形成隧道结构的绝缘层;复相锌铁氧体具有非线性的伏安曲线和TMR效应;单相锌铁氧体具有线性伏安曲线和一般铁氧体磁电阻效应;复相锌铁氧体的相变动力学表明?-Fe2O3是由晶界或表面控制的析晶。

关键词: 无机非金属材料 , tunneling structure , tunneling magnetoresistance

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