陈祝
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张树人
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杜善义
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杨成韬
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郑泽渔
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李波
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孙明霞
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2006.01011
利用固相反应制备了直径为70mm, 厚度为10～15mm高质量掺杂Li2CO2的ZnO陶瓷靶材, 实验了不同摩尔浓度的Li+掺杂对靶材性能的影响, 确定了最佳Li+掺杂量为2.2mol%, 同时通过在不同温度烧结实验、不同成型压力实验确定了ZnO靶材制备的最佳工艺, 并采用所制备的ZnO-Li2.2%陶瓷靶和RF(射频磁控)技术在Si(100)、玻璃(载玻片)、及Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备出高度c轴(002)择优取向的ZnO薄膜, 其绝缘电阻率ρ为4.12×108Ω·cm, 达到了声表面波器件(SAW)的使用要求.
关键词:
陶瓷靶
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zinc oxide films
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RF magnetron sputtering
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preferred orientation
陈祝
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张树人
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杜善义
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杨成韬
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孙明霞
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郑泽渔
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李波
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董加和
功能材料
利用固相反应成功地制备了直径为70mm,厚度为10～15mm的掺杂Li离子ZnO陶瓷靶材.研究了不同摩尔浓度的Li离子掺杂靶材,并对其绝缘电阻与损耗进行了分析比较,最终确定Li离子的最佳掺杂量为2.2l%(摩尔分数).同时通过在不同温度烧结试验、不同成型压力试验确定了ZnO靶材制备的最佳工艺,并通过所制备的ZnO-Li0.022陶瓷靶,采用RF射频磁控溅射技术在Si(100)、玻璃(载玻片)、及Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备出高度c轴(002)择优取向、均匀、致密的ZnO薄膜.
关键词:
陶瓷靶
,
氧化锌薄膜
,
射频磁控溅射
,
择优取向
桑敏
,
刘发民
,
丁芃
,
毋二省
,
王天民
功能材料
本文采用TiO2陶瓷靶及射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了一系列透明TiO2薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对不同衬底温度和溅射功率的TiO2薄膜结构和形貌进行了表征,结果随着溅射条件的不同会出现锐钛矿或锐钛矿-金红石的混合相.利用UV-Vis-Nir分光光度计测得的透射光谱表明随着衬底温度和溅射功率的增加吸收边有一定的红移.薄膜的光催化活性通过对罗丹明B溶液的降解效率来表征,结果表明在550℃和130W表面出最佳的光催化效果.
关键词:
TiO2薄膜
,
射频磁控溅射
,
陶瓷靶
,
光催化特性
陈祝
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张树人
,
杜善义
,
杨成韬
,
郑泽渔
,
李波
,
孙明霞
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.04.040
利用固相反应制备了直径为70mm,厚度为10～15mm高质量掺杂Li2CO2的ZnO陶瓷靶材,实验了不同摩尔浓度的Li+掺杂对靶材性能的影响,确定了最佳Li+掺杂量为2.2mol%,同时通过在不同温度烧结实验、不同成型压力实验确定了ZnO靶材制备的最佳工艺,并采用所制备的ZnO-Li2.2%陶瓷靶和RF(射频磁控)技术在Si(100)、玻璃(载玻片)、及Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备出高度c轴(002)择优取向的ZnO薄膜,其绝缘电阻率ρ为4.12×108Ω·cm,达到了声表面波器件(SAW)的使用要求.
关键词:
陶瓷靶
,
氧化锌薄膜
,
射频磁控溅射
,
择优取向
黄帅
,
李晨辉
,
孙宜华
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柯文明
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00064
采用陶瓷靶直流磁控溅射,以玻璃为基底制备2.5wt％ Nb掺杂TiO2薄膜,控制薄膜厚度在300～350 nm,研究了不同基底温度下所制得薄膜的结构、形貌和光学特性.XRD分析表明,基底温度为150℃、250℃和350℃时,薄膜分别为非晶态、锐钛矿(101)和金红石相(110)结构.基底温度250℃时,锐钛矿相薄膜的晶粒尺寸最大,约为32 nm.薄膜表面形貌的SEM分析显示,薄膜粗糙度和致密度随基底温度升高得到改善.薄膜的平均可见光透过率在基底温度为250℃以内约为70％,随基底温度升高至350℃,平均透过率下降为59％,金红石相的存在不利于可见光透过.Nb掺杂TiO2薄膜的光学带宽在3.68～3.78 eV之间变化.基底温度为250℃时,锐钛矿相薄膜的禁带宽度最大,为3.78 eV.
关键词:
基底温度
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TiO2
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直流磁控溅射
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陶瓷靶
,
显微结构
,
光学特性
