吴朝兴
,
李福山
,
郭太良
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.07.003
采用旋涂技术、光刻技术、蒸发镀膜技术制备以图形化石墨烯∶聚合物复合薄膜为活性层,具有氧化铟锡/石墨烯∶聚合物/铝交叉型夹层结构的阻变器件.采用光刻胶为有机基体,实现阻变层的可图形化；通过优化石墨烯浓度,获得具有优良性能的可擦写非易失性阻变存储器件,讨论其阻变机制.实验表明,当石墨烯浓度为0．01％(质量分数)时,器件具有最佳的阻变特性,其开关比达8．9×103,且表现出良好的数据维持能力.
关键词:
石墨烯
,
阻变存储器件
,
图形化
,
有机/无机杂化
