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化合物半导体/SiO2纳米复合薄膜的研究现状

马志华 , 柴跃生 , 孙钢 , 张敏刚

兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2005.02.022

半导体/介质镶嵌纳米复合薄膜具备准零维量子点的特征,这类材料具有三阶光学非线性系数大,响应快,功耗低等特点,在光开关、光存储及全光逻辑运算等领域有着广阔的应用前景.对半导体/介质镶嵌纳米复合薄膜的主要制备方法-射频磁控共溅射法的基本原理及技术特点作了概要介绍.从镶嵌于介质中半导体纳米颗粒非线性光学性质的研究动态入手,分类评述了化合物半导体/SiO2纳米复合薄膜近年来的研究状况,指出了这类复合薄膜的研究重点和发展方向.

关键词: 化合物半导体 , 镶嵌纳米薄膜 , 射频磁控溅射 , 非线性光学性质

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