罗序燕
,
彭鹏
,
武斌
,
李东林
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.03.005
为了研究希夫碱光亮剂DL01,DL02,DL03及添加剂Co(BF4)2在电镀时的电化学行为,采用线性电位扫描测定了氟硼酸盐光亮镀锡溶液中加入各种新型添加剂后的极化曲线.结果表明,在含DL01或DL03的氟硼酸盐镀液中,Sn2+的还原峰电位分别为-0.230 V和-0.320 V;在含DL01,DL03及少量Co(BF4)2的氟硼酸镀锡溶液中,Sn-Co共沉积峰电位为-0.210 V;Co(BF4)2促进了Sn2+的沉积,Sn-Co的共析是协同共沉积.
关键词:
氟硼酸盐
,
光亮镀锡
,
极化曲线
,
线性电位扫描
,
锡钴协同共沉积
