赵胜利
,
文九巴
,
李谦
,
傅正文
,
秦启宗
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2006.03.009
制备了SnOx(1≤x≤2)薄膜,研究了氧化温度对薄膜形貌、结构及性质的影响.结果表明,SnOx薄膜表面光滑、厚度均匀且致密,由纳米尺寸、分布均匀的晶形颗粒组成,颗粒粒径随着氧化温度的升高而逐渐变大;SnOx薄膜电极初始可逆容量随着氧化温度的升高而降低,首次容量损失则随氧化温度的升高而增大.在温度为600℃氧化2 h,SnOx薄膜的可再充放电性能最好.
关键词:
无机非金属材料
,
锡基氧化物薄膜
,
真空蒸发
,
热氧化
