张力元
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段良飞
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杨雯
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杨培志
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邓双
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涂晔
,
陈小波
人工晶体学报
为探讨其晶化过程及动力学机理,本文采用磁控溅射技术制备Al/Si薄膜,并利用快速光热退火制备微晶硅.通过采用不同的衬底温度及对铝膜进行退火处理,探究其晶化动力学过程.利用拉曼散射光谱(Raman)仪和X射线衍射(XRD)仪对薄膜进行性能表征.结果表明:退火及衬底加热均能在界面形成非共融的硅铝化合物;延长退火时间能使Al/Si界面充分扩散,达到成核条件.较大的铝晶粒及其择优取向,能有效改善铝诱导晶化效果.
关键词:
非晶硅薄膜
,
磁控溅射
,
铝诱导
,
动力学
潘松海
,
周海
,
曾冬梅
功能材料
选用Cd0.9Zn0.1Te晶体和纯度为99.999％的铝为靶材,结合Al诱导晶化技术,采用磁控溅射法在普通玻璃衬底上制备了CdZnTe薄膜.研究了铝诱导CdZnTe薄膜的结构和形核机理.研究表明,铝诱导的CZT薄膜为闪锌矿结构,且为(111)晶面的取向生长；在薄膜生长过程中,覆盖在CdZnTe表面的铝首先与ZnTe结合,形成了ZnAl2Te4相,并以此为核心,诱导CdZnTe异质形核结晶,重新形成了小晶粒团簇的较致密颗粒状薄膜,提高了薄膜(111)面的优势取向结晶,提高了CdZnTe薄膜的结晶质量.讨论了薄膜的光学性能.
关键词:
CdZnTe薄膜
,
铝诱导
,
磁控溅射
,
形核机理
,
光学性能
方茹
,
沈鸿烈
,
吴天如
,
刘斌
,
沈剑沧
人工晶体学报
本文以超白玻璃为衬底,利用热丝化学气相沉积和磁控溅射法制备了Glass/nc-Si/Al的叠层结构,然后置于管式退火炉中在H2气氛下进行5h诱导晶化,用XRD、光学显微镜、扫描电镜和拉曼光谱对样品进行了表征.结果表明所有样品都是有(111)择优取向的多晶硅薄膜,在425℃诱导时,多晶硅晶粒尺寸最大达400 μm,但薄膜不连续；随着诱导温度升高到450℃,样品表面已形成了连续的多晶硅薄膜,但晶粒尺寸有所减小；475℃下诱导获得的最大晶粒尺寸约为200μm,此时多晶硅薄膜的结晶质量更好.还从动力学的角度分析了铝诱导纳米硅的晶化机理.
关键词:
大晶粒
,
多晶硅薄膜
,
铝诱导
,
纳米硅
