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镀镍溶液中铜杂质的分析方法

郭崇武

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2011.02.012

利用铜试剂与Cu2+生成黄棕色络合物的特效显色反应,用分光光度法测定镀镍溶液中的铜杂质.用EDTA掩蔽镍离子和铁离子,在氨碱性条件下显色,显色液pH≈9.2.以镀液底色作参比,在λ=450 nm处测定.实验表明,测定结果的相对平均偏差为2%,能够满足监控镀镍溶液中铜杂质的要求.

关键词: 镀镍溶液 , 铜杂质 , 铜试剂 , 分光光度法

铜试剂分光光度法测定铜在电镀中的应用(Ⅰ)——电镀废水中铜的测定

戴永盛 , 裴如俊 , 戴惠

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2008.01.012

介绍了铜试剂分光光度法测定铜时,运用EDTA-Cit-NH4OH混合溶液掩蔽干扰离子,在水相中直接进行测定.应用在电镀分析方面的有:电镀废水中的铜、各种电镀液中的铜杂质、合金镀层中的铜及镀液中的铜盐组分等的测定,并对原理、分析操作和计算等都作了详尽的介绍.

关键词: 铜试剂 , 分光光度法 , EDTA-Cit-NH4OH混合溶液 , 电镀 ,

阴离子交换树脂相分光光度法测定铝合金中痕量铜

刘海珂 , 姚俊学

冶金分析 doi:10.13228/j.issn.1000-7571.2014.07.012

建立了以Dowex 1×2型阴离子交换树脂为吸附相,在pH值为8.0、非离子表面活性剂存在下,铜与铜试剂、乳化剂OP三元络合体系测定铜含量的分光光度法.通过试验确定了Dowex 1×2型阴离子树脂用量为0.30 mL、显色剂用量为2.0 mL、乳化剂OP溶液用量为1.0 mL、最佳吸附时间为25 min、最大吸收波长为437 nm.常见共存离子不干扰铜的测定,Fe3+、Co2+、Ni2+对显色体系的干扰,可加入5 mL 50.0 g/L EDTA 200.0 g/L TAC混合掩蔽剂掩蔽.Cu(Ⅱ)浓度在4.0~50.0 μg/mL范围内符合比尔定律,线性回归方程为A=0.279 0ρ+0.062 7,相关系数r=0.999 3,表观摩尔吸光系数ε为1.79×105 L· mol-1·cm-1.方法的检出限为0.063 mg/mL.对铝合金样品中痕量铜进行测定,相对标准偏差(n=6)为3.0%~7.9%,测定结果同原子吸收光谱法的结果一致.

关键词: 树脂相分光光度法 , , 铝合金 , 铜试剂

三价铬镀液中铜杂质的分析

郭崇武 , 易胜飞

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2008.06.010

利用铜试剂与Cu2+的特效显色反应,采用分光光度法测定三价铬镀铬溶液中铜的质量浓度. 用EDTA掩蔽镍和铁,在氨性条件下显色,显色液pH=9.20.以镀液底色作参比,在波长450 nm处测定.测定结果的相对平均偏差不大于1.3%,回收率为100%~103%,能够满足监控三价铬镀液中铜杂质的要求.

关键词: 三价铬镀液 , 铜杂质 , 铜试剂 , 分光光度法

Ag(Ⅰ)-DDTC螯合物微粒体系的光谱特性及其分析应用

翟好英 , 蒋治良

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2005.08.009

在pH=10.5的NH3-NH4Cl缓冲溶液中和氯化十四烷基二甲基苄基銨存在下,Ag(Ⅰ)与二乙基二硫代氨基甲酸钠(DDTC)可形成较稳定的(Ag-DDTC)n螯合物微粒. 它在361 nm处产生1个共振散射峰,在464 nm处产生1个同步散射峰. 当激发波长为260 nm时,它在400和466 nm处产生2个荧光峰. 在一定条件下,Ag(Ⅰ)浓度在4.3×10-8~3.24×10-6 g/mL之间均与共振散射强度I361 nm和荧光强度F400 nm呈线性关系. 据此建立了一个检测限为1.0×10-8 g/mL Ag的共振散射新方法. 该方法应用于照片和定影液废水中微量银的测定,结果满意.

关键词: , 铜试剂 , 螯合物微粒 , 共振散射 , 荧光

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