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纳米多孔铜及铜合金能够通过去合金化法进行高效可控的制备，由于其展现出优异的物理和化学性能，并且价格低廉，有望取代纳米多孔贵金属(如多孔金等)，在催化、生物传感器、能源等领域展现巨大的应用潜力。系统地总结了近5年来纳米多孔铜及铜合金在去合金化孔洞形成机理、制备工艺探索、性能表征及应用方面的一些最新研究进展。在此基础上提出纳米多孔铜及铜合金3个最有可能的研究方向。

关键词: 去合金化 , 纳米多孔金属 , 纳米多孔铜 , 铜及铜合金

环保型铜及铜合金化学抛光与钝化工艺

石磊 , 王士磊 , 吴笛

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2003.09.019

关键词: 无毒低污 , 铜及铜合金 , 化学抛光 , 钝化

铜及铜合金大气腐蚀影响因素的灰色关联分析

陈杰 , 郑弃非 , 温军国

腐蚀与防护

采用灰色关联方法,对现场暴露试验得到的10种铜及铜合金在我国七个典型大气环境试验站1年和10年两个周期的大气腐蚀速率进行了污染物和气象因素影响的关联分析.结果表明,对铜及铜合金大气腐蚀影响最大的污染物因素是SO2,气象因素是平均湿度、降露日数和最低温度.

关键词: 铜及铜合金 , 大气腐蚀 , 灰色关联分析 , 影响因素

对铜及铜合金化学抛光工艺进行了研究,考察了低浓度硝酸体系和双氧水体系对铜及其合金的抛光亮度、腐蚀失重以及对环境污染程度的影响.结果表明,低浓度硝酸体系抛光亮度高,适用范围广,对环境的污染较传统三酸体系少,虽然对铜及铜合金有一定的腐蚀,但返工对工件的尺寸影响不大,适用于冰箱、空调器等的蒸发管的抛光.双氧水抛光体系对铜及其合金腐蚀轻微,对环境的污染更少,但成本相对较高,适于对加工尺寸要求严格的铜及铜合金电子元件的化学抛光.

关键词: 铜及铜合金 , 化学抛光 , 硝酸 , 双氧水

紫铜海水管焊接接头部位的腐蚀研究

周建奇 , 王宏志

腐蚀与防护 doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2006.03.002

紫铜海水管系经常在焊接接头部位发生腐蚀穿孔泄漏,分析主要是由于结构不均匀性和成分不均匀性所致.实验研究表明,用黄铜焊条所形成的焊缝组织为α+β相,在海水中极易发生脱锌腐蚀,白铜焊条因镍的存在所形成的焊缝组织仍为铜-镍-锌三元单相固溶体(α相),因而具有较好的耐海水腐蚀性能.

关键词: 海水管 , 焊接 , 腐蚀 , 铜及铜合金

铜及其合金化学抛光工艺研究

彭荣华 , 李国斌 , 马凇江

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.06.010

为了满足铜材钝化时对处理表面的要求,对化学抛光工艺及配方进行了深入研究,并分析了抛光液中各组分及工艺条件对抛光质量的影响.该工艺的最优配方及工艺条件为:50～55 mL/L磷酸,10～15 mL/L硝酸,25～30 mL/L草酸,1.0～1.5 g/L尿素,1.5～2.0 g/L香豆素,2.5 g/L磺胺,水余量,抛光温度55 ℃左右,抛光时间2～5 min.用此最优配方及工艺条件对铜及其合金进行化学抛光,可获得最佳抛光效果,且该工艺具有溶液成分简单、易于操作、抛光速度快、亮度好、污染低等优点.

关键词: 化学抛光 , 铜及铜合金 , 表面处理 , 工艺

新型铜及铜合金光亮酸洗工艺

王婷 , 沈晓 , 张红军 , 周瑛

电镀与涂饰

介绍了一种铜及铜合金无硝酸、无铬光亮酸洗工艺，其主要工序包括化学除油、盐酸漂洗和化学出光。通过正交试验对化学出光溶液组成进行优化，得到最优配方为：H2SO415%， H3PO420%，出光剂A(含氧化剂、缓蚀剂及表面活性剂)20%。该新型抛光剂适用于多种铜及铜合金，工件的光泽与传统混酸洗工艺相当，在自动线上必要的38 s内不会对工件产生过腐蚀。

关键词: 铜及铜合金 , 光亮酸洗 , 出光 , 正交试验 , 配方

铜及铜合金低温快速无铬钝化工艺研究

谢洪波 , 沈小鹏 , 张来祥

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.01.011

铜及铜合金制品需进行钝化处理,否则会氧化变色,影响外观.在低温、快速的操作条件下,具有良好防护效果的铜及铜合金无铬钝化工艺是目前国内外研究的热点.本工艺通过引入氧化促进剂及辅助成膜剂与BTA配用,钝化效果超过了传统的含铬钝化工艺,具有低温、快速、易于管理操作使用等优点.结果表明,硝酸滴定法防护性测试达到20 s以上,超过传统六价铬6 s的合格标准,从实用角度讨论了影响因素及使用管理方法,在生产中取得了良好的效果.

关键词: 清洁生产 , 低污染 , 无铬钝化 , 铜及铜合金 , 苯并三氮唑

铜及铜合金电化学抛光

张述林 , 罗祎 , 陈世波

电镀与涂饰

在酸性条件下对紫铜进行了电化学抛光,其工艺流程主要包括:除油,活化,电化学抛光和真空干燥.采用正交试验,讨论了抛光液中各组分及各工艺参数对抛光效果的影响,得出了最佳配方和工艺条件:30%硫酸+60%磷酸+5%去离子水+5%添加剂(即3%乙醇+1.8%尿素+0.2%苯并三氮唑),温度45℃,电流密度40A/dm2.

关键词: 铜及铜合金 , 电化学抛光 , 正交试验 , 苯并三氮唑