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液相电沉积技术制备n-型铋碲纳米线阵列温差电材料

王为 , 张伟玲 , 王惠 , 陶松 , 张建中

无机材料学报

对铋碲合金电沉积过程进行了研究,并分析了温度和硝酸浓度对铋碲共沉积的影响.结果表明,Bi³⁺和HTeO₂⁺合溶液中的电沉积是分阶段进行的.溶液中HTeO₂⁺的存在阻碍了Bi³⁺的电沉积.铋碲共沉积的速度随温度的升高以及溶液中硝酸浓度的增加而加速.实验中还研究了沉积电位对铋碲组成的影响.采用ESEM分析了铋碲纳米线阵列温差电材料的形貌.

关键词: 铋碲温差电材料 , nanowire array , electrodepositionbb

液相电沉积技术制备n-型铋碲纳米线阵列温差电材料

王为 , 张伟玲 , 王惠 , 陶松 , 张建中

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2004.01.021

对铋碲合金电沉积过程进行了研究,并分析了温度和硝酸浓度对铋碲共沉积的影响.结果表明,Bi3+和HTeO+2混合溶液中的电沉积是分阶段进行的.溶液中HTeO+2的存在阻碍了Bi3+的电沉积.铋碲共沉积的速度随温度的升高以及溶液中硝酸浓度的增加而加速.实验中还研究了沉积电位对铋碲组成的影响.采用ESEM分析了铋碲纳米线阵列温差电材料的形貌.

关键词: 铋碲温差电材料 , 纳米线阵列 , 电沉积

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