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脉冲电沉积钴镍合金及其生长形态的研究

张芳 , 荆天辅 , 乔桂英 , 陈闽子

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2001.04.001

研究了钴镍合金镀液中mCO2+/(mCO2++mNi2+)对镀液中钴含量的影响.利用XJG-05金相显微镜观察了镀层表面形貌及截面生长形态.结果表明:合金镀层中的钴含量随着mCO2+/(mCO2++mNi2+)的增大而显著增大.电位较负的钴优先沉积,为异常共沉积.脉冲条件下所得镀层致密、均匀,呈胞状生长.

关键词: 钴镍合金 , 脉冲电沉积 , 形态

脉冲电沉积钴镍合金层微观结构的研究

张芳 , 荆天辅 , 乔桂英 , 赵军

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2001.06.001

研究了钴镍合金镀液中Co2+浓度与镀层中钴含量的关系,并采用XRD、TEM分析了不同钴含量合金镀层的微观结构.结果表明,沉积层中的钴含量随电解液中Co2+浓度的增大而显著增大,当镀层中的钴含量为69.8%～78.9%(质量分数)时,镀层为面心立方晶格的α-Co相和排六方晶格的ε-Co相组成;钴含量低于69.8%时为α-Co相;钴含量大于78.9%时为ε-Co相.钴含量增大,晶粒尺寸明显减小,合金点阵参数增大.

关键词: 钴镍合金 , 脉冲电沉积 , 微观结构

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