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钴掺杂对氧化镍薄膜电致变色性能的影响

王景 , 苏革 , 曹立新 , 柳伟 , 董征 , 赵莉丽 , 宋美芹

材料研究学报

采用恒电位法在FTO玻璃上沉积Co与Ni摩尔比为O.16∶1的薄膜,用X射线衍射仪,扫描电镜和能谱仪分析了膜的成分、结构和形貌,用紫外-可见分光光度计表征了膜的透光性能,用循环伏安法表征了膜的电化学稳定性和可逆性,用双电位阶跃法表征了膜的开关响应时间,研究了钴掺杂对氧化镍薄膜电致变色性能的影响.结果表明,钴掺杂使NiO薄膜颗粒更加细小和均匀,提高了薄膜在可见光波段着色态与消色态之间的透光率差值,降低了电致变色反应的工作电压,有利于薄膜在电致变色过程的可逆性,缩短了着色响应时问.

关键词: 无机非金属材料 , 电致变色 , 钴掺杂氧化镍薄膜 , 可逆性

钴掺杂对氧化镍薄膜电致变色性能的影响

王景苏革曹立新柳伟董征赵莉丽宋美芹

材料研究学报

采用恒电位法在FTO玻璃上沉积Co与Ni摩尔比为0.16:1的薄膜, 用X射线衍射仪、扫描电镜和能谱仪分析了膜的成分、结构和形貌, 用紫外--可见分光光度计表征了膜的透光性能, 用循环伏安法表征了膜的电化学稳定性和可逆性, 用双电位阶跃法表征了膜的开关响应时间, 研究了钴掺杂对氧化镍薄膜电致变色性能的影响。结果表明, 钴掺杂使NiO薄膜颗粒更加细小和均匀, 提高了薄膜在可见光波段着色态与消色态之间的透光率差值, 降低了电致变色反应的工作电压, 有利于薄膜在电致变色过程的可逆性, 缩短了着色响应时间。

关键词: 无机非金属材料 , electrochromic , Co-doped NiO film , reversibility

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