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钛表面电弧离子镀沉积钯膜层的研究

李争显 , 张跃飞 , 王宝云 , 王少鹏 , 严鹏 , 徐重

稀有金属材料与工程

利用电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度试验机等分析手段,对采用焊接复合式靶材,在钛表面沉积出的钯膜层进行分析研究.结果表明:钯膜层具有电弧离子镀典型特征,膜层的厚度为1.2~2 μm,膜层致密.提高膜层的沉积温度使膜层与基体之间生成Ti4Pd相.膜层的表面硬度约为2 GPa,在膜层与基体之间由于生成了Ti4Pd相,硬度增力口至U 2.8 GPa.

关键词: 钛表面 , 电弧离子镀 , 钯膜层 , 性能

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