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杜平凡 , 席珍强 , 汪新颜 , 金达莱 , 王勇
功能材料
采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在钢衬底上沉积氮化硅薄膜.用台阶仪、X射线光电子能谱(XPS)、透射电镜(TEM)和扫描电镜(SEM)等手段对薄膜的厚度、成分、结构及形貌进行表征,并探讨了各工艺参数对薄膜沉积速率的影响.
关键词: 氮化硅薄膜 , 钢衬底 , RF-PECVD , 沉积速率
