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氢化非晶硅的红外光谱及氢释放的研究

李牧菊 , 杨柏梁 , 朱永福 , 袁剑峰 , 刘传珍 , 廖燕平 , 吴渊

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.1999.03.007

用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)制备了氢化非晶硅薄膜(a-Si∶H)并进行了退火实验,利用红外吸收光谱(IR)和金相显微镜研究薄膜中的氢含量及退火前后的脱氢现象,得出材料组成及热稳定性对衬底温度Ts和射频功率Prf的依赖关系.

关键词: 非晶硅 , 化学气相淀积 , 红外光谱 , 金相显微