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APCVD法制备Nb∶TiO2薄膜及其光电性能

杨磊 , 刘涌 , 王慷慨 , 丛炳俊 , 程波 , 陆妍 , 林俊君 , 宋晨路

材料科学与工程学报 doi:10.14136/j.cnki.issn.1673-2812.2015.04.012

透明导电氧化物(TCO)薄膜要求低电阻率和可见光区高透过率.目前最常用的是ITO薄膜存在着有毒、In成本高等难以克服的缺点.NTO薄膜是近年来新发现的一种具备广阔前景的TCO薄膜,但对它的认识还不充分.本文采用APCVD法在玻璃基板上成功制备出了颗粒均匀细小致密的NTO薄膜,探索出最佳反应温度为500℃~550℃,通过高真空退火的方式改善了薄膜晶体质量,光学透过率获得大幅提升,与经过掺杂但未经过H2退火的Nb∶TiO2薄膜和经过H2退火但未掺杂的TiO2薄膜相比较,经过掺杂和H2退火的Nb∶ TiO2薄膜其电学性能得到明显改善.

关键词: 透明导电氧化物薄膜 , 常压化学气相沉积 , 晶体质量 , 光电性能

氧分压对直流磁控溅射制备ZnO:Ga透明导电薄膜特性的影响

马全宝 , 叶志镇 , 何海平 , 朱丽萍 , 张银珠 , 赵炳辉

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324x.2007.06.019

通过直流反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备了掺镓ZnO(ZnO:Ga)透明导电薄膜,研究了氧分压对ZnO:Ga透明导电薄膜结构和电光学性能的影响.X射线衍射结果表明所制备的薄膜具有c轴择优取向的六角多晶结构.ZnO:Ga透明导电薄膜的晶粒尺寸强烈依赖于氧分压的大小,随着氧分压的增大薄膜的晶粒尺寸先增大后减小,在氧分压为0.30 Pa时沉积的ZnO:Ga薄膜半高宽最小,晶粒尺寸最大.薄膜的电阻率随着氧分压的增大先减小后增大,沉积薄膜的最低电阻率可达3.50×10-4Ω·cm.此外,所有ZnO:Ga薄膜在可见光范围内的平均透射率均超过90%.

关键词: ZnO:Ga , 透明导电氧化物薄膜 , 磁控溅射 , 氧分压 , 光电特性

利用AFORS-HET对P型HIT太阳电池的模拟优化

姚尧 , 肖少庆 , 刘晶晶 , 顾晓峰

人工晶体学报

运用模拟软件AFORS-HET对TCO/a-Si∶ H(n)/a-Si∶ H(i)/c-Si(p)/Ag结构的异质结(HIT)太阳电池进行仿真,分析其光伏输出特性随发射层掺杂浓度、晶硅衬底掺杂浓度、透明导电氧化物薄膜(TCO)的选择以及TCO功函数的变化规律.结果显示,当发射层掺杂浓度大于1.0×1020 cm-3,晶硅衬底掺杂浓度大于1.2×1016 cm3,以ZnO为TCO层且ZnO的功函数低于4.4 eV时,电池的开路电压、短路电流密度、填充因子及电池转换效率达到最优值,光电转换效率最高达到19.18%.

关键词: 异质结太阳电池 , 透明导电氧化物薄膜 , AFORS-HET , 功函数

可用于沉积透明导电氧化物薄膜的柔性衬底研究进展

刘丹 , 黄友奇

材料导报

柔性衬底表面沉积TCO薄膜具有许多独特的优点且应用广泛.但柔性衬底存在不耐高温的缺点,如何选择合适的柔性衬底,在表面沉积TCO薄膜过程中至关重要.简单介绍了各种柔性衬底的相关性能,阐述了当前国内外在该领域中各柔性衬底的研究成果,展望了未来柔性衬底的选择及应用趋势.

关键词: 柔性衬底 , 透明导电氧化物薄膜 , 柔性透明导电氧化物薄膜

新型透明导电氧化物薄膜Nb-TiO2的研究进展

冯娴娴 , 赵小如 , 刘凯 , 刘波 , 赵亮

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2009.09.020

新型透明导电氧化物薄膜Nb-TiO2因其优异的光电性能成为当今研究的热门材料.本文详细阐述了Nb-TiO2薄膜的光电性能、影响Nb-TiO2光电特性的因素与机理以及目前的研究进展、前沿动态等,着重讨论了载流子浓度及其散射过程对光学透过率和导电性能的影响.

关键词: Nb-TiO2 , 透明导电氧化物薄膜 , 光电机理

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