郭秀燕
,
李术元
,
岳长涛
,
倪贤明
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2006.09.010
研究了以硼氢化钾为还原剂的新型还原法脱除苯并噻吩有机硫. 结果表明,CoCl2·6H2O适宜用量为0.50 g,溶剂CH3OH体积为20 mL,还原剂用量为0.40 g,苯并噻吩的正庚烷溶液硫含量由1.420×10-3 g/g下降到1.75×10-4 g/g,脱硫率可达88%,反应时间为20 min,反应过程中温度应控制在15 ℃以下;气相中不含有H2S,被脱除的S元素保留在固相产物中. 可能的反应机理为:在质子溶剂中,CoCl2与KBH4发生反应,生成活性黑色固体硼化钴和H2;还原脱硫过程为加氢脱硫机理,苯并噻吩的还原过程经由直接氢解和加氢2种路径完成;反应过程生成大量的初生态吸附在硼化钴表面并被活化,进一步转化成瞬时中间产物,该瞬时中间产物进攻苯并噻吩的不饱和键,或苯并噻吩通过S原子配位加合到该中间产物上,发生键的断裂反应.
关键词:
还原脱硫
,
苯并噻吩
,
反应条件
,
反应机理
