李成明
,
张勇
,
曹尔妍
,
薛明伦
中国有色金属学报
介绍了利用过滤电弧离子镀沉积(TiAl)N薄膜初步的研究结果. 在电弧靶材前沿的磁场作用下, 有效减小了薄膜的宏观颗粒尺寸, 并极大地降低了颗粒密度. 同时, 过滤电弧的作用, 使偏压对膜成分的影响减弱, 薄膜的硬度随膜中铝含量的增加而提高, (TiAl)N的抗氧化能力明显提高.
关键词:
过滤电弧
,
薄膜
,
宏观颗粒
,
抗氧化性能
李成明
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孙晓军
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张增毅
,
唐伟忠
,
吕反修
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2004.03.012
讨论利用直线型过滤电弧制备TiAlN薄膜中,过滤磁场作用于弧斑、靶中毒现象,电子和离子的回流和叠加偏压等因素影响作用的大小进行了实验分析.结果表明,磁场对弧斑分裂和弧斑运动速度的综合作用最为显著是由于直线型过滤电弧形成的瓶颈磁场造成的电子和离子的回流,以及直流叠加脉冲偏压形成的放电空间的等离子体磁撞,分解和离化的所起的共同作用的结果.这对于控制电弧离子镀沉积薄膜中的颗粒尺寸和颗粒密度,指定合理的工艺参数有一定的指导作用.
关键词:
过滤电弧
,
沉积
,
磁场
