王颖男
,
杭凌侠
,
胡敏达
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.01.018
为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术--等离子体抛光.介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理,在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验,对影响去除效果的参数进行了实验研究,最后进行工艺参数优化.结果表明此技术能够应用于对光学元件的加工.
关键词:
超光滑表面
,
等离子体抛光
,
电容耦合放电
,
表面粗糙度
,
去除速率
李宝贵
,
李成贵
,
刘一
,
杨辉
材料科学与工艺
为揭示抛光液酸碱度对超光滑表面的影响,采用浓度均为10%的酸性和碱性溶液对K9玻璃表面进行腐蚀.通过研究试件的粗糙度、硬度等参数发现不同酸碱度抛光液对试件腐蚀时间相同,但对试件表面质量影响不同.试验结果表明:抛光液酸碱度对超光滑表面质量的影响非常显著,进而提出抛光液酸碱度工艺参数指标:采用弱碱性抛光溶液更容易得到高质量的超光滑表面.
关键词:
酸碱度
,
超光滑表面
,
加工工艺
,
参数指标
陈光珠
,
杭寅
,
汪隽
,
何晓明
,
张连翰
,
李志鸿
,
华如江
,
何明珠
人工晶体学报
本文运用原子力显微镜检测传统机械抛光和化学机械抛光以及退火前后的钛酸锶(STO)衬底表面,研究了化学机械抛光和退火对钛酸锶(STO)基片表面形貌的影响,结果表明化学抛光可以使表面粗糙度达到0.214 nm,明显优于机械抛光.对比测量退火前后钛酸锶(STO)基片的双晶摇摆曲线,表明退火可以明显改善晶体质量,有利于实现超光滑STO基片的加工.
关键词:
钛酸锶
,
超光滑表面
,
化学机械抛光
,
退火
陈志刚
,
陈杨
中国有色金属学报
通过均相沉淀法制备了纳米CeO2和Al2O3粉体,研究了在相同抛光条件下纳米CeO2、Al2O3和SiO2磨料对硅片的抛光效果,用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌并测量其表面粗糙度.结果表明:纳米CeO2磨料抛光后表面具有更低的表面粗糙度,在5 靘5 靘范围内表面粗糙度Ra值为0.240 nm,而且表面的微观起伏更趋向于平缓;考虑了纳米磨料在抛光条件下所发生的自身变形,其变形量相当于一部分抵消了纳米磨料嵌入基体材料的切削深度,而这个切削深度最终决定了抛光表面的粗糙度;分析指出这个变形量与纳米磨料的硬度成反比,硬度低的纳米磨料由于自身变形量大,导致切削深度小,抛光后表面的粗糙度值低.解释了在相同的抛光条件下不同硬度的纳米磨料具有不同的抛光表面粗糙度的原因.
关键词:
纳米磨料
,
硬度
,
粗糙度
,
超光滑表面
,
抛光
周永恒
,
苏英
,
黄武
材料导报
随着光学、微电子、航天和激光技术的发展,在晶体或玻璃等无机材料上制备亚纳米级的超光滑无损伤表面已成为现代精密加工技术领域的重点研究课题.近年来,此项技术研究进展迅速,不仅改进了传统的抛光技术,还出现了浮法抛光、离子束加工和弹性发射加工等新技术.系统介绍了超光滑表面的检测、制备技术及其发展,并讨论了抛光过程中的机械化学作用机理.
关键词:
超光滑表面
,
亚表面缺陷
,
抛光
