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田跃生
表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.05.027
概述了非晶硅薄膜的金属诱导晶化原理,介绍了Al,Ni两种金属诱导非晶硅薄膜晶化的一般规律,详细探讨了金属诱导条件下非晶硅薄膜的本质晶化机理,旨在为非晶硅薄膜的低温成核、晶化机理研究和多晶硅薄膜的研发制备提供实验支持与理论参考.
关键词: 非晶 , 硅薄膜 , 诱导晶化
