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不同裂解升温速率制备的Cf/Si3N4复合材料性能研究

郑文伟 , 陈朝辉 , 方晖 , 马青松

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2002.11.006

以聚硅氮烷为先驱体,研究先驱体转化过程中不同裂解升温速率对制备3D-B Cf/Si3N4复合材料性能的影响.结果表明:随着裂解升温速率的提高,陶瓷基复合材料的力学性能明显提高,以10℃/min裂解升温速率制得的陶瓷基复合材料的弯曲强度达604MPa.

关键词: 陶瓷基复合材料 , 裂解升温速率 , 聚硅氮烷 , 力学性能

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