舒勇华
,
刘宏立
,
樊菁
,
崔季平
,
谢冲
中国腐蚀与防护学报
doi:10.3969/j.issn.1005-4537.2005.02.002
利用漫反射率、X射线光电能谱和质谱等测量方法,研究了固态和气态四氧化二氮(N2O4)对漫反射试片氟化镁(MgF2)涂层表面的污染情况.实验表明,固态N2O4对MgF2涂层有严重侵蚀作用,N2O4固粒污染后的涂层表面漫反射率下降了20%～30%.在一定的时间内,气态N2O4对涂层表面的影响显著地依赖它的压力.试片在压力为6.9×104 Pa和200Pa的N2O4蒸气中分别放置10 min,前者厚度为40μm的MgF2涂层基本消失,表面漫反射率下降约20%;后者涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小.还给出了MgF2涂层表面N2O4分子吸附摩尔密度,以及与涂层表面碰撞的N2O4分子通过化学吸附过程提取MgF2的几率.
关键词:
N2O4
,
漫反射试片
,
MgF2涂层
,
表面污染
陈云霞
,
林晓艳
,
罗学刚
,
尚宁宁
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.10.032
以魔芋葡甘聚糖(KGM)为原料,制备了一种用于去除不同材料表面模拟放射性核素 U(Ⅵ)污染的魔芋葡甘聚糖醋酸酯(KGMA)去污剂.研究了KGMA浓度、U(Ⅵ)污染时间、初始污染量、温度对去除率的影响,同时利用SEM-EDX、XPS对去污机理进行了分析,并借助TG-FT-IR联用技术对去污膜的热分解特性和分解产物进行了研究.结果表明,KGMA去污剂对4种材料表面U(Ⅵ)污染的去污效果显著,当环境温度在10~40℃变化时,4种材料的去污率在90％~99％.对U(Ⅵ)的去除是物理和化学共同作用的结果.KGMA去污膜在空气氛围中的失重率为96．07％,高温热解时产生气体的主要成分为 H2 O、CO2和CO,未见其它有害成分.
关键词:
KGM醋酸酯
,
去污
,
表面污染
,
U(Ⅵ)
,
热分解
