陈逢军
,
唐宇
,
苗想亮
,
尹韶辉
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.11.019
作为精密超精密光学制造工艺过程中的一个重要环节,各种新型表面抛光方法与工艺始终吸引着科研人员不断深入研究与探索. 磨料射流抛光方法为小型复杂零件的表面抛光提供了一个新思路,成为精密超精密光学加工技术的重要组成部分. 对磨料射流表面抛光过程中衍生的磨料水射流抛光、磁射流抛光、负压吸流抛光、磨料气射流抛光、冰粒水射流抛光、纳米胶体射流抛光的抛光原理、方法及特点进行了综述,分析了各射流表面抛光技术材料去除的最新发展;从加工原理、磨料选择、抛光精度、数学模型等方面对上述新型射流抛光技术进行深入分析与比较,其中磁射流抛光、纳米胶体射流抛光、磨料水射流抛光的抛光精度较高,可以实现表面粗糙度纳米级的超精密抛光,而磨料气射流抛光、冰粒射流抛光从加工成本上来讲则相对较低. 最后,对磨料射流表面抛光在去除函数优化、精度效率的提高、应用范围扩展、在线检测、商业化应用等方面的发展趋势进行了预测.
关键词:
磨料射流
,
射流抛光
,
超精密抛光
,
表面加工
,
光学加工
钱晓霞
,
李伟华
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.01.025
对准误差是MEMS表面加工工艺中的一个重要参数,对它的测量和控制有着重要的意义.目前大多采用光机械的方法来测量,但是测试方法复杂、测试时间长.主要对MEMS表面加工工艺中导电层和非导电层之间的对准误差测试结构进行了研究,可用于测量表面工艺中牺牲层和多晶硅层之间的对准误差.通过对集成电路中所用的锥形梳状游标结构进行改进,把对准误差的测量转化为电阻的测量,从而实现对准误差的快速电测量,理论上可达到0.1μm的分辨率,测试方法简单快捷,并且很便于测试系统集成.
关键词:
对准误差
,
表面加工
,
电测量
