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自组装单分子膜的末端基团对化学气相沉积铜薄膜的影响

刘铮铮 , 王琦 , 刘鑫 , 包杰琼

材料科学与工程学报

利用化学气相沉积(CVD)的方法在自组装单分子膜(SAMs)修饰的SiO2表面沉积铜薄膜,并对得到的铜薄膜的性质进行表征与分析.通过比较研究发现:在沉积过程中,SAMs的末端基团作为铜沉积的反应位点,末端基团与铜之间的相互作用力越强,则铜在基材表面的沉积与附着能力越强,而且SAMs阻挡铜原子扩散进入硅内部的效果越好.而SAMs的生长取向也会对铜沉积时的晶型产生影响.

关键词: 材料表面与界面 , 自组装单分子膜(SAMs) , 末端官能团 , 铜薄膜 , 化学气相沉积

基于自组装技术改性处理钛金属的摩擦学特性研究

孙昌国 , 张会臣

稀有金属材料与工程

为了使钛金属应用于具有相对运动的摩擦副,采用自组装技术对钛金属表面进行改性处理,并对制备的试样进行紫外照射.利用接触角测量仪、原子力显微镜和微摩擦磨损试验机对制备的试样进行表征和摩擦学特性测试,探讨不同方法进行钛金属表面羟基化的作用效果,并分析载荷、滑动速度以及紫外照射对试样摩擦学特性的影响.结果表明:Piranha溶液结合紫外照射能有效地提高钛基底的羟基化程度,经FOTS(Perfluorooctyltrichlorosilane)自组装分子膜改性处理的钛金属表面平整均匀,具有疏水特性和良好的摩擦学性能.Si_3N_4球与FOTS自组装分子改性处理试样间的摩擦系数随载荷和滑动速度的增大而增大.紫外照射5 min可有效地提高FOTS自组装分子膜改性处理的效果,在降低摩擦系数的同时,薄膜也具有良好的耐久性.

关键词: 自组装单分子膜(SAMs) , 紫外照射 , 摩擦 , 磨损

扫描电化学显微镜对铁自组装膜的电化学表征

刘秀玉 , 马厚义 , 陈慎豪 , 李文静

腐蚀学报(英文) doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2009.03.005

用扫描电化学显微镜(SECM)的线扫描的方法研究咪唑啉分子吸附在铁的表面形成的自组装单分子膜(SAMs).采用恒高度工作模式,用基底产生/探头收集的原理探讨发生在探头针尖与基底间隙的化学动力学过程和对表面浓度进行检测.空白的铁电极和组装咪唑啉的铁电极在0.1 mol/L HClO4的峰电流的值分别是-1.67165e-9A和-2.146e-10A.结果表明,组装咪唑啉分子后探头具有更低的电流,其原因在铁电极表面形成的SAMs膜抑制了电极在溶液中发生的氧化还原反应,阻碍了电荷转移过程,抑制了铁基底的溶解.

关键词: , 自组装单分子膜(SAMs) , 咪唑啉(IM) , 扫描电化学显微镜(SECM)

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