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电解磷化膜层的统计试验研究

刘湘慧

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.11.007

与传统磷化相比,电解磷化工艺采用电能,具有速度更快,膜层更牢固、覆盖更完整,质量控制更方便等优点.对比了传统工艺与该电解磷化工艺的原理,说明了该工艺无铁淤泥生成的原因.通过统计试验讨论了化学成分对磷化膜质量、表面形貌、组分的影响及膜层质量对其暗度的影响.结果表明,膜层质量与溶液中的锌含量有直接关系,但膜层结构基本不受化学成分的影响,而膜层微观形貌与暗度与其质量有关.由此说明,通过控制磷化液中的锌含量可控制膜层质量,而通过检测膜层外观也可有效监控膜层质量.

关键词: 电解磷化 , 铁淤泥 , 化学成分 , 暗度 , 锌含量 , 膜层质量

TA2纯钛材阳极氧化着色工艺

李玉海 , 万智来 , 蒋国瑜 , 朱其柱

材料保护

对钛及钛合金进行阳极氧化处理可提高其作为生物医用材料的性能.将TA2纯钛片在磷酸、葡萄糖酸钠混合溶液中阳极氧化得到不同颜色的氧化膜,研究了电解液配方、阳极氧化工艺参数(电压、电流密度、氧化时间、电解液温度)、基材酸洗前处理以及氧化膜封孔后处理对氧化膜质量的影响.结果表明:磷酸浓度影响膜层的均匀性和颜色深浅,葡萄糖酸钠浓度影响成膜速度和颜色对应的电压区间,电压影响膜层厚度和颜色,电流密度决定氧化膜的生长速度;优化的电解液配方和工艺参数为100mL/L磷酸,20g/L葡萄糖酸钠,温度25℃,氧化时间60s;酸洗后的试样着色更加均匀,封孔后的着色试样表面更加致密,抗污染能力提高.

关键词: 阳极氧化 , TA2纯钛 , 膜层质量 , 着色 , 封孔

PECVD工艺参数对nc-Si:H膜质量的影响

彭英才 , 刘明 , 何宇亮

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1998.04.009

研究了PECVD生长nc-Si:H膜过程中SiH4气体稀释比、平衡反应气压、衬底温度、等离子体射频功率和直流负偏压等各种工艺参数对生成膜层质量的影响,探讨了提高膜层质量的新途径.

关键词: nc-Si:H膜 , 膜层质量 , 工艺参数

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