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物理气相沉积在耐腐蚀涂层中的应用

顾剑锋 , 李沛 , 钟庆东

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.09.012

PVD（物理气相沉积）作为一种新型绿色的镀膜技术，由于涂层具备硬度高、耐磨性好、摩擦系数低、化学性能稳定、耐热耐氧化的特点，使其在机械、电子和光学行业得到广泛应用。近些年来随着 PVD 技术应用领域的不断扩展，对涂层的性能提出了更高要求，在保障力学性能的同时，如何提高涂层耐蚀性成为研究热点。概述了PVD 技术应用于材料防腐的相关研究，综述了 PVD 涂层的成分、结构与耐蚀行为的关系，同时分别阐述了在 PVD技术中提高涂层耐蚀性能的方法与机理。

关键词: 物理气相沉积 , 抗腐蚀 , 化学成分 , 涂层结构 , 膜基界面