张敏
,
林国强
,
董闯
,
闻立时
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2007.05.012
采用脉冲偏压电弧离子镀技术在玻璃基片上室温制备了均匀透明的非晶TiO2薄膜,在0--900 V范围内改变脉冲偏压幅值,考察其对薄膜沉积速率、表面形貌和光学性能的影响.结果表明,随着脉冲偏压的升高,非晶薄膜沉积速率以-100 V为界先高后低;薄膜的吸收边先红移后蓝移,但光学带隙Eg基本无变化,约为3.27 eV;-300 V偏压时薄膜达到原子级表面平滑度,均方根粗糙度Rrms≈0.113 nm,因而薄膜折射率n也最高(nλ=550 nm达到已有报道的最高值2.51).
关键词:
非晶TiO2薄膜
,
脉冲负偏压
,
电弧离子镀
,
光学性能
张敏
,
林国强
,
董闯
,
闻立时
金属学报
采用脉冲偏压电弧离子镀技术在玻璃基片上制备均匀透明的非晶二氧化钛薄膜，在0～900V范围内改变脉冲偏压幅值，考察其对氧化钛薄膜光学性能的影响。结果表明，室温下沉积态薄膜为非晶态。脉冲偏压对薄膜光学性能有明显的影响。随着脉冲偏压的升高，薄膜沉积速率以100V为界先高后低；薄膜的吸收边先红移后蓝移，但光学带隙Eg基本无变化，约为3.27eV；300V偏压时薄膜达到原子级表面平滑度，RRMS为0.113nm，因而薄膜折射率也最高，nλ＝550达到已有报道的最高值2.51。
关键词:
非晶二氧化钛薄膜
,
pulsed bias
,
arc ion plating
