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聚酰亚胺纳米复合薄膜的低温电气强度研究

李元庆 , 张以河 , 李艳 , 李明 , 付绍云 , 肖立业 , 杨士勇

绝缘材料 doi:10.3969/j.issn.1009-9239.2004.05.007

介绍了在77K的低温条件下复合薄膜电气强度的测试方法,研究了聚酰亚胺/蒙脱土、聚酰亚胺/云母、聚酰亚胺/SiO23个系列的低温电气强度,分析了填料含量等因素对薄膜电气强度的影响.研究结果表明:前两个系列填料对电气强度的影响趋势相同,均存在最佳填料含量,聚酰亚胺/蒙脱土系列电气强度最佳可达215.77MV/m;而聚酰亚胺/SiO2系列,电气强度比纯PI薄膜略有下降,且含量较高时下降明显,但仍然可以满足应用的要求.

关键词: 纳米复合材料 , 聚酰亚胺/蒙脱土 , 聚酰亚胺/云母 , 聚酰亚胺/SiO2 , 低温介电强度

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