李小龙
,
褚明福
,
帅茂兵
,
廖俊生
材料导报
介绍了聚对二甲苯(Parylene)薄膜在热、紫外光和γ射线中的老化行为及产物,讨论了一些老化现象的机理,提出了今后需要加强研究的方向.Parylene抗辐射能力最强,而抗紫外线能力最差,其老化主要表现在亚甲基的氧化与断裂.在125℃左右,开始出现较明显的热氧化,氧化速率与温度的关系符合Arrhenius关系式;在300nm的紫外光照射下发生较明显的降解,-Cl的存在对光解有加速作用;在空气气氛中,当γ辐照剂量超过50kGy后Parylene将发生明显的氧化,其耗氧量与辐照剂量近似呈线性关系,而且薄膜的熔融温度下降,透湿系数提高.
关键词:
聚对二甲苯
,
热老化
,
紫外光老化
,
辐射老化
刘枫
,
沈军
,
秦仁喜
,
吴广明
,
肖轶群
,
吴兆丰
材料导报
报道了采用真空化学气相沉积法制备的聚对二甲苯薄膜和采用溶胶-凝胶技术制备的二氧化硅增透膜,通过提拉镀膜法在聚对二甲苯薄膜表面镀制SiO2增透膜得到的双层膜可应用于KDP晶体的增透保护膜.用FT-IR、紫外-近红外分光光度计对聚对二甲苯/SiO2薄膜的结构和光学性能进行了表征和测试.双层膜的透射率达到92%以上,激光损伤阈值为8J/cm2.镀有保护膜的KDP晶体在相对温度稳定的环境下放置半年多后透射率基本保持不变.
关键词:
聚对二甲苯
,
SiO2增透膜
,
KDP晶体
,
保护膜
张治红
,
豆君
,
牛晓霞
,
闫福丰
,
彭东来
,
郑先君
材料研究学报
在研究等离子聚合法所合成的聚对二甲苯(ppPX)薄膜的化学结构和性能的基础上,考察了ppPX作为铜在Si-SiLK基体上阻隔层的应用可能性.在特定辉光射频条件下,ppPX膜表面的苯环能够保留.加热退火后,铜向裸Si-SiLK和向经ppPX接枝修饰的Si-SiLK基体的扩散程度存在差异.经由Ar和N2载气所承载的对二甲苯单体所聚合得到的ppPX,具有不同的结构和性能,后者能改善铜和聚合物膜间的粘附力.因此,在Si-SiLK基底表面制备ppPX膜,可提高铜在基体上的粘附强度,又能阻隔铜向内基体内扩散.
关键词:
有机高分子材料
,
等离子体聚合
,
聚对二甲苯
,
扩散隔离
,
低介电常数
张占文
,
李波
,
王朝阳
,
余斌
,
林波
材料导报
原子序数低的CH薄膜在惯性约束聚变实验用靶的制备中应用很广泛.介绍了真空气相沉积法制备聚对二甲苯薄膜的实验设备、实验原理和实验方法.制备聚对二甲苯薄膜的原料在400K附近蒸发,950K附近裂解成单体,单体在300K的低温表面聚合成膜.研究了薄膜厚度的计算方法,并根据实验数据推导了计算公式,从而实现了对薄膜厚度的精确控制,使其在惯性约束聚变靶制备中得以应用.
关键词:
气相沉积
,
制备
,
聚对二甲苯
刘枫
,
沈军
,
秦仁喜
,
吴广明
,
周斌
,
肖轶群
,
吴兆丰
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2005.01.009
聚对二甲苯是一种可应用于光学器件和晶体保护的新型高分子材料.采用真空化学气相沉 积法制备聚对二甲苯薄膜,并通过提拉镀膜法在其表面镀制一层 SiO2增透膜,可提高薄膜的透射 率至 90%以上.用 FT- IR、紫外-近红外分光光度计和 XPS对聚对二甲苯 /SiO2复合薄膜结构 和光学性能进行了表征和测试 ,并初步研究了薄膜受紫外光辐照而产生光氧化现象的机理.
关键词:
聚对二甲苯
,
SiO2增透膜
,
光氧化
