刘磊
,
王涛
,
何智兵
,
张玲
,
易勇
,
杜凯
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.01.038
采用直流/射频耦合反应磁控溅射法在Si(111)衬底上使用高纯石墨靶材制备出了类金刚石(DLC)薄膜.分别采用表面轮廓仪、激光拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱、扫描电镜、白光干涉仪、纳米压痕对薄膜的性能进行了表征和分析.研究了沉积过程中不同工作气压(0．35~1．25 Pa)对薄膜沉积速率、结构、表面形貌及力学性能的影响.研究表明，随着工作气压的升高，薄膜的沉积速率逐渐减小，薄膜中 sp3含量先升高后降低；薄膜表面粗糙度随工作气压的升高呈现出先降低后升高的趋势，且在工作气压为1．0 Pa时达到最小值6．68 nm；随着工作气压的升高，薄膜的显微硬度与体弹性模量先升高后降低，且在工作气压为1．0 Pa时分别达到最大值11．6和120．7 GPa.
关键词:
耦合反应磁控溅射
,
类金刚石薄膜
,
工作气压
