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张营堂 , 梁冰 , 刘立柱 , 雷清泉
绝缘材料 doi:10.3969/j.issn.1009-9239.2003.06.002
通过超声机械混合方法制备纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合耐电晕薄膜,并对其耐电晕性进行测量.用红外光谱(IR)和原子力显微镜(AFM)观察无机纳米粒子的分散情况及其电晕前后变化.结果表明:纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合薄膜耐电晕性比普通的聚酰亚胺薄膜高.
关键词: 超声机械共混 , 纳米二氧化硅 , 聚酰亚胺薄膜 , 耐电晕性
