周琦
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杨彬彬
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贺春林
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杭康
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杭冬良
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俞丽华
电镀与涂饰
以羧基类物质作配位剂,在A3钢板表面电沉积制备NiP合金镀层.镀液基础组成和工艺参数为:NiSO4·6H2O 240 g/L,NiC12·6H2O 45 g/L,NaH2PO2·H2O 50 g/L,H3BO3 35 g/L,NaF30g/L,pH 2.0,温度70℃,电流密度2.5 A/dm2,时间20 min.研究了镀液中羧基配位剂含量对Ni-P镀层沉积速率和耐蚀性的影响.结果表明,随羧基配位剂含量增大,沉积速率减小,镀层耐蚀性先改善后变差.其适宜含量为20 ~ 30 g/L.羧基配位剂含量为25 g/L时,镀层外观光亮、结合力良好,耐蚀性和耐磨性优于未加配位剂的镀层.镀层的P含量为18.11%,属于高磷非晶态Ni-P镀层.羧基配位剂具有细化镀层晶粒的作用,使镀层表面更为平整、致密.
关键词:
镍-磷合金镀层
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电镀
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羧基配位剂
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耐蚀性