吴葆存
黄金
doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2003.11.014
采用硫酸钾、硫磺粉和碳酸钡的混合物为缓冲剂,以人工配制的硅酸岩基体物质为样品稀释剂[1],在WPⅠ一米光栅上用直流电弧叠加摄谱,有效地改善了基体成分.该方法降低了银、锡、硼的检出限(分别为银0.019×10-6,锡0.49×10-6,硼1.9×10-6),精密度RSD(n=12)为2.79%～8.71%,可满足1:20万岩石化探分析测定的要求.
关键词:
发射光谱
,
碳酸盐
,
缓冲剂
,
稀释剂
,
银
,
锡
,
硼
许庆胜
,
朱燕娟
,
赵汝冬
,
韩全勇
,
庄义环
,
曾逸廷
人工晶体学报
采用超声波辅助沉淀法在不同条件下制备了多组纳米氢氧化镍,用X射线衍射仪对样品晶相结构进行了测试分析.结果表明,反应条件如镍源、掺杂元素、缓冲剂、制备方法都对Ni(OH)2晶相有较大影响.镍源或缓冲剂较大的阴离子半径有助于α-Ni(OH)2的形成；二元掺杂比单元掺杂时其产物α-Ni(OH)2比例高；掺杂离子的种类、半径、价态都直接影响Ni(OH)2的晶相.本文还对微乳液法和超声波辅助沉淀法制备的样品进行了对比分析.
关键词:
多相纳米Ni(OH)2
,
超声波辅助沉淀法
,
掺杂元素
,
缓冲剂
马凤仓
,
徐敏
,
刘平
,
李伟
,
刘新宽
,
何代华
,
陆晓琴
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.07.019
以微弧氧化后的钛合金为基体,采用水热电化学法制备了 HA/TiO 2涂层.利用 SEM、XRD 对涂层的表面形貌、物相组成进行了表征分析,通过 pH 微探针原位探测电极/电解液界面 pH 值的变化,研究了pH 值和缓冲剂对水热电化学沉积 HA/TiO 2涂层的影响.研究结果表明,微弧氧化膜有利于水热电化学沉积 HA,得到的 HA 晶体分布均匀、致密.当电解液pH 值在2~8时,pH 值升高有利于提高水热电化学沉积 HA 的结晶度,并促使 HA 沿(002)晶面生长.在水热电化学沉积 HA 过程中,电极表面的 pH 值随沉积时间的增加先升高后逐渐降低；而溶液中的 pH值随沉积时间的增加逐渐降低.pH 值和缓冲剂对涂层 HA 晶体形貌有明显影响,加入缓冲剂后得到的HA 晶体端面呈六边形棒状结构,晶体表面光滑、结晶完整.
关键词:
微弧氧化膜
,
水热电化学法
,
羟基磷灰石
,
pH 值
,
缓冲剂
李建中
,
邵忠财
,
田彦文
中国有色金属学报
以硫酸镍为主盐,采用正交实验确定了镁合金"无氟绿色环保"碱性化学镀镍镀液成分及操作条件.选择适合镁合金化学镀的缓冲剂,考察了镀液参数对化学镀的影响.结果表明:缓冲剂Na2CO3适合镁合金化学镀镍,它不仅能提高化学镀镍速度,而且可以调节镀层与基体间的结合力,缓冲化学镀过程中pH值的变化;碱性化学镀的pH值范围为8.5～11.5;络合剂柠檬酸钠的最佳浓度为30 g/L;所得镀层均匀致密,孔隙率少,属于晶态特征明显的低磷镀层,耐蚀性较好,化学镀层与镁合金基体结合良好.
关键词:
镁合金
,
化学镀
,
缓冲剂
,
耐蚀性
,
结合力
