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绝缘层下电磁线表面发黑原因分析

陈范才 , 周海晖 , 何德良 , 张小华 , 杨喜云

腐蚀与防护 doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2000.08.013

通过X射线衍射和XPS对电磁线绝缘膜下表面黑膜及模拟腐蚀试样的表面膜进行了分析,测得表面黑膜主要由Cu2O、CuO、CuCO3、Cu(OH)2、Cu的氯化物和硫化物以及钠盐、SiO2等组成.由此对电磁线绝缘膜下表面发黑的原因进行了探讨.

关键词: , 电磁线 , 绝缘膜 , 腐蚀 , 发黑

PMMA分子量对其电学特性的影响

张亚军 , 王乐 , 祖帅 , 钟传杰

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2012.02.005

通过分析以PMMA[poly( methyl methacrylate)]为绝缘膜的MIS结构的电学特性,研究了分子量对PMMA薄膜电学特性的影响.PMMA薄膜通过旋涂溶于氯仿的20mg/ml PMMA溶液制成.PMMA薄膜厚度为220nm,临界电场超过1.8MV/cm.测量结果表明:(1)996K分子量PMMA薄膜的单位面积漏电流最小,仅有6.0×10-9/cm2.350K分子量的漏电流较大,为8.5×10 -9/cm2;(2)高电场下决定漏电流与场强关系的物理机制是肖特基发射,通过线性拟合计算出银电极与PMMA之间的势垒高度约为0.5eV;(3)分子量大的PMMA陷阱密度小.996K分子的最小,为4.7×1010/cm2.

关键词: PMMA , 绝缘膜 , OTFTs , 绝缘膜陷阱 , C-V特性

MLS结构的电容-电压特性

张佐兰 , 郑茳 , 黄勤 , 陆祖宏 , 魏同立

材料研究学报

本文报导在Si 衬底上拉制聚酰胺LB 膜的电容-电压特性,结果表明:它具有与其它绝缘膜相似的特性,为聚酰胺LB 膜应用于场效应器件奠定了基础。

关键词: LB膜 , C-V characteristics , insulator films

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