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纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究

闫鹏勋 , 吴志国 , 徐建伟 , 张玉娟 , 李鑫 , 张伟伟

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.06.021

利用自行研制的磁过滤等离子体设备,在室温条件下的不锈钢基底上成功地制备了性能良好的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和X射线衍射仪对其结构和形貌进行了表征.利用纳米硬度仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果显示:沉积的TiN薄膜表面非常平整光滑,致密而无缺陷;硬度远高于粗晶TiN的硬度;TiN晶粒尺寸在30～50nm;沉积过程中在基底上施加的负偏压会影响纳米结构TiN薄膜的结构和性能.

关键词: 纳米结构氮化钛 , 薄膜 , 等离子体