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纳米多孔SiO2薄膜疏水性的研究进展

高庆福 , 冯坚 , 成慧梅 , 周仲承 , 王娟 , 张长瑞

材料导报

超低介电常数纳米多孔SiO2薄膜在未来超大规模集成电路(ULSI)中有着广阔的应用前景,但其疏水性能的好坏是决定其能否在ULSI中应用的重要因素之一.介绍了国内外有关纳米多孔SiO2薄膜疏水性的原理、工艺以及表征方法.

关键词: 纳米多孔SiO2薄膜 , 疏水处理 , 接触角 , 低介电常数

纳米多孔SiO2功能薄膜制备方法的研究进展

陈娟 , 蒋继富 , 赵宗彦 , 张瑾 , 朱忠其 , 柳清菊

材料导报

纳米多孔SiO2薄膜的各种优异性能,使其在众多领域中占有极大的应用潜力.对一些新的制备纳米多孔SiO2薄膜的方法如自组装法、酸碱两步催化法、微波合成法进行了概括和总结,并分析了其原理、方法和特点.

关键词: 纳米多孔SiO2薄膜 , 溶胶-凝胶法 , 自组装法 , 酸碱两步催化法 , 微波合成法

疏水型纳米多孔SiO2薄膜的制备与性能表征

高庆福 , 冯坚 , 李明月 , 张长瑞 , 王小东 , 冯军宗

稀有金属材料与工程

采用TMCS对超临界干燥后的纳米多孔SiO2薄膜进行疏水处理,利用FTIR、SEM、椭偏仪和LCR测量仪等对薄膜的性能进行表征.研究表明:TMCS修饰后薄膜呈疏水性;薄膜的厚度有所降低,但孔隙率无明显变化;薄膜的实测介电常数值接近理论计算值,为2.0～2.3,且随时间无显著增大.

关键词: 纳米多孔SiO2薄膜 , 疏水处理 , 低介电常数

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